日本大塚非接触光学膜厚计FE-300

日本大塚非接触光学膜厚计FE-300它是一种紧凑且低成本的膜厚计，可以通过高精度光学干涉法轻松测量膜厚。

我们采用了一体式外壳，将必要的设备容纳在主体中，从而实现了稳定的数据采集。
通过以低价获得绝对反射率可以分析光学常数。

• 支持从薄膜到厚膜的各种膜厚
• 使用反射光谱进行膜厚分析
• 紧凑且价格低廉，实现了非接触，无破坏的高精度测量
• 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度
• 使用峰谷法，频率分析法，非线性最小二乘法，优化法等，可以进行多种膜厚测量。
• 通过非线性最小二乘法的膜厚分析算法，可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

• 绝对反射率测量
• 膜厚分析（10层）
• 光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

• 功能膜，塑料
  透明导电膜（ITO，银纳米线），相位差膜，偏光膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP，PC，PE，PVA，胶粘剂，胶粘剂，保护膜，硬质大衣，防指纹等
• 半导体
  化合物半导体，硅，氧化膜，氮化膜，抗蚀剂，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，蓝宝石等。
• 表面处理
  DLC涂层，防锈剂，防雾剂等
• 光学材料
  滤镜，增透膜等
• FPD
  LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有机膜，密封剂）等
• 其他
  硬盘，磁带，建筑材料等

大冢电子使用光学干涉法和我们自己的高精度分光光度计，实现非接触，无损，高速和高精度的膜厚测量。光学干涉法是一种通过使用如图2所示的使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚度的方法。以涂覆在金属基板上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光在薄膜（R1）的表面反射。此外，已经穿过膜的光在基板（金属）和膜界面（R2）处反射。测量此时由于由光程差引起的由相移引起的光干涉现象并从获得的反射光谱和折射率计算膜厚度的方法称为光干涉法。分析方法有四种：峰谷法，频率分析法，非线性最小二乘法和优化法。

设备配置