otsuka反射光谱膜厚仪FE-3000_济南千斗工业-日本科学仪器网

otsuka反射光谱膜厚仪FE-3000通过使用显微镜观察获得微小区域的绝对反射率，从而能够通过光学干涉法进行高精度的膜厚分析的装置。

可以分析各种样品的膜厚和光学常数，例如半导体领域的图案样品，形状样品（如透镜和钻头）以及表面粗糙度和膜厚不均匀的样品。

特殊长度

它是一种光学干涉型膜厚计，可以测量多层膜的膜厚并通过将紫外到近红外范围的光反射来分析光学常数。
通过采用光谱法，可以进行非接触，无损，高精度和高再现性的膜厚测量。
它支持很宽的波长范围（190nm至1600nm）。
它支持从薄膜到厚膜的广泛测量。（1纳米〜1毫米）
通过测量微小点（最小φ3μm），可以处理有图案和不均匀的样品。

测量项目

绝对反射率测量
膜厚分析
光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

用

功能膜，塑料
透明导电膜（ITO，银纳米线），相位差膜，偏光膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP，PC，PE，PVA，胶粘剂，胶粘剂，保护膜，硬质大衣，防指纹等
半导体，化合物半导体
Si，氧化膜，氮化膜，抗蚀剂，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，引线框架，SOI，蓝宝石等
表面处理
DLC涂层，防锈剂，防雾剂等
光学材料
镜头，滤光镜，增透膜等
FPD
LCD（CF，ITO，LC，PI，PS），OLED（有机膜，密封剂）等
其他
硬盘，磁带，建筑材料等

测量原理

大冢电子使用光学干涉法和我们自己的高精度分光光度计，实现非接触，无损，高速和高精度的膜厚测量。光学干涉法是一种通过使用如图2所示的使用分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚度的方法。以涂覆在金属基板上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光在薄膜（R1）的表面反射。此外，已经穿过膜的光在基板（金属）和膜界面（R2）处反射。测量此时由于由光程差引起的由相移引起的光干涉现象并从获得的反射光谱和折射率计算膜厚度的方法称为光干涉法。分析方法有四种：峰谷法，频率分析法，非线性最小二乘法和优化法。

技术指标

SiO ₂ SiN的膜厚测量[FE-0002]

半导体晶体管通过控制电流通电状态来传输信号，但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流通过任意通道而在晶体管之间进行绝缘。嵌入绝缘膜。SiO ₂（二氧化硅）和SiN（氮化硅）用作绝缘膜。SiO ₂用作绝缘膜，SiN用作介电常数比SiO ₂高的绝缘膜，或者在用CMP去除不必要的SiO ₂时用作阻挡层，然后也去除SiN。以这种方式，必须测量这些膜厚度以用作绝缘膜并进行精确的工艺控制。

彩色抗蚀剂（RGB）膜厚度测量[FE-0003]

液晶显示器通常具有右侧所示的结构。CF在一个像素中具有RGB，是一种非常精细的分钟图案。主流的CF膜形成方法是在玻璃的整个表面上施加基于颜料的彩色抗蚀剂，通过光刻对其进行曝光和显影，而仅留下每个RGB的图案部分。此时，如果彩色抗蚀剂的厚度不恒定，则作为彩色滤光片可能引起图案变形和颜色变化，因此控制膜厚度值很重要。

硬涂膜厚度测量[FE-0004]

近年来，使用具有各种功能的高性能膜的产品已经变得广泛，并且根据应用，可能需要在膜表面上具有诸如耐磨性，耐冲击性，耐热性和耐化学性的性质的保护膜。有。通常形成硬涂层（HC）膜作为保护膜层，但是取决于HC膜的厚度，它可能不能用作保护膜，膜中可能发生翘曲，或者可能导致外观不均匀或变形。因此，必须控制HC层的厚度值。

使用倾斜模型对ITO进行结构分析[FE-0005]

ITO（氧化铟锡）是用于液晶显示器的透明电极材料，由于成膜后的退火处理（热处理）而具有改善的导电性和颜色。那时，氧状态和结晶度也改变，但是该改变可能相对于膜的厚度以逐步的梯度改变，并且不能被认为是具有光学均匀组成的单层膜。对于这种ITO，我们将介绍一个使用倾斜模型测量上界面和下界面的nk的倾斜度的示例。

考虑表面粗糙度的膜厚值测量[FE-0007]

如果样品的表面具有粗糙度，则将表面粗糙度建模为“粗糙度层”，其中以1：1的比例混合大气（Air）和膜厚度材料，并分析粗糙度和膜厚度。有可能。这是测量表面粗糙度为几纳米的SiN（氮化硅）的示例。

使用超晶格模型测量干涉滤波器[FE-0009]

使用无干扰层模型测量密封的有机EL材料[FE-0010]

有机EL材料易受氧气和湿气的影响，并且在正常气氛下可能会发生变化或损坏。因此，成膜后立即用玻璃密封。这是在玻璃密封时测量玻璃膜厚度的示例。无干扰层模型用于中间的玻璃和空气层。

使用相同的分析在多个点测量nk未知超薄膜[FE-0013]

要求材料nk通过最小二乘法拟合来分析膜厚值（d）。如果nk未知，则将d和nk分析为变量参数。但是，在d为100nm以下的超薄膜的情况下，d和nk无法分离，因此精度降低，无法得到正确的d。在这种情况下，测量多个具有不同d的样本，并假设nk相同，进行同时分析（在多个点进行相同的分析）。这使得可以精确地获得nk并精确地获得d。

使用界面系数[FE-0015]测量新基板上的膜厚度

在基板表面不是镜面的，粗糙度大的样品的情况下，由于散射而使测定光减少，反射率比实际低。通过使用界面系数考虑基板表面的反射率的降低，可以测量基板上的薄膜的厚度值。作为示例，我们将描述测量在细线修饰的铝基板上的树脂膜的厚度的示例。

测量用于各种应用的DLC涂层厚度]

DLC（类金刚石碳）是一种无定形的碳基材料。它具有诸如高硬度，低摩擦系数，耐磨性，电绝缘性，高阻隔性，表面改性和与其他材料的改善的相容性等特征，并且被用于各种应用中。近年来，根据每种应用对膜厚测量的需求不断增长。
DLC厚度的测定通常通过准备监视样品并用电子显微镜观察其截面来进行，但通过大冢电子公司采用的光学干涉型膜厚计，进行无损且高速的测定。有可能。通过改变测量波长范围，可以测量从超薄膜到超厚膜的宽膜厚范围。
通过采用独特的显微镜光学系统，可以实际测量成形样品而不是监测样品。另外，在检查监视器上的测量位置的同时进行测量对于分析异常原因很有用。
我们将准备一个支持各种形状的定制倾斜/旋转平台。可以测量实际样品的任意多个点。
不知道材料的光学常数（nk）是光学干涉型薄膜厚度系统的弱点而无法测量准确的薄膜厚度的问题是一种独特的分析方法：使用多点分析来预先准备厚度。通过同时分析多个不同的样本，与过去相比，可以以极高的精度获得nk。
通过对来自NIST（美国国家标准技术研究院）认证的标准样品进行校准，可以保证可追溯性。